什么是常壓等離子設(shè)備？

常壓等離子體設(shè)備是利用等離子體放電去除有機物和氧化物的設(shè)備。

它僅由用于產(chǎn)生等離子體的反應(yīng)氣體和電源組成，其之處在于不需要減壓罐。由于它可以去除高分子材料表面的有機薄膜和金屬表面的氧化物，因此不僅在工業(yè)應(yīng)用中而且在學(xué)術(shù)研究中得到廣泛應(yīng)用。小型設(shè)備也已被開發(fā)出來并應(yīng)用于各個領(lǐng)域。

具體用于醫(yī)療器械的消毒、食品加工廠的消毒以及半導(dǎo)體制造過程中的表面處理。此外，我們還致力于環(huán)境問題，利用常壓等離子設(shè)備的廢氣和廢水凈化技術(shù)的開發(fā)正在取得進展。

常壓等離子設(shè)備的應(yīng)用

大氣壓等離子設(shè)備可以對樹脂、薄膜、高分子材料的表面進行改性?？梢栽诓粨p壞表面的情況下高速進行表面改性。

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子元件、塑料、玻璃制品等生產(chǎn)。具體而言，通過利用等離子體反應(yīng)進行表面清潔以及改變聚合物表面的組成，可以預(yù)期改善親水性。

還可以通過粘合劑（聚氨酯基和環(huán)氧基）提高聚乙烯和聚丙烯等材料的粘合強度。為此，常壓等離子設(shè)備也用于需要強力粘合劑的產(chǎn)品，例如汽車零部件和醫(yī)療設(shè)備。